4N HfO2 স্পুটারিং টার্গেটের বর্ণনা
হাফনিয়াম ডাই অক্সাইড লক্ষ্যবস্তু হল একটি কার্যকরী উপাদান যা উচ্চ-বিশুদ্ধতা হাফনিয়াম ডাই অক্সাইড (HfO₂) দ্বারা গঠিত, যা প্রাথমিকভাবে পাতলা-ফিল্ম ডিপোজিশন প্রসেস যেমন ফিজিক্যাল বাষ্প ডিপোজিশন (PVD) এবং ম্যাগনেট্রন স্পুটারিং-এ ব্যবহৃত হয়। এর মূল বৈশিষ্ট্যগুলির মধ্যে রয়েছে একটি উচ্চ গলনাঙ্ক, চমৎকার রাসায়নিক স্থিতিশীলতা, উচ্চতর বৈদ্যুতিক নিরোধক বৈশিষ্ট্য এবং নির্দিষ্ট তরঙ্গদৈর্ঘ্যের সীমার মধ্যে অপটিক্যাল স্বচ্ছতা। উচ্চ বিশুদ্ধতা জমা হওয়া ফিল্মগুলির অভিন্নতা, তাদের অপটিক্যাল কর্মক্ষমতা এবং ডিভাইসের নির্ভরযোগ্যতা নিশ্চিত করার জন্য মৌলিক, কারণ অমেধ্য ফিল্মের ত্রুটির কারণ হতে পারে। লক্ষ্যবস্তুর মানের স্থায়িত্ব সরাসরি জমা প্রক্রিয়ার পুনরুৎপাদনযোগ্যতা এবং চূড়ান্ত পণ্যের ফলনের সাথে সম্পর্কযুক্ত। সেমিকন্ডাক্টর, অপটোইলেক্ট্রনিক, এবং উন্নত উত্পাদন প্রযুক্তির ক্রমাগত উন্নতির সাথে, উচ্চ-কার্যক্ষমতা সম্পন্ন হাফনিয়াম ডাই অক্সাইড লক্ষ্যগুলির চাহিদা ক্রমাগত বৃদ্ধি পাচ্ছে, বিস্তৃত বাজারের সম্ভাবনা উপস্থাপন করছে৷
4N HfO2 স্পুটারিং টার্গেটের অ্যাপ্লিকেশন
সেমিকন্ডাক্টর ম্যানুফ্যাকচারিং: একটি উচ্চ-ডাইইলেকট্রিক-ধ্রুবক (উচ্চ-কে) উপাদান হিসাবে, এটি উন্নত ট্রানজিস্টর গেট ইনসুলেটর তৈরিতে ব্যবহার করা হয়, যা উন্নত ডিভাইসের কর্মক্ষমতা এবং ক্ষুদ্রকরণে অবদান রাখে।
অপটোইলেক্ট্রনিক ডিভাইস: এর ব্যতিক্রমী অপটিক্যাল বৈশিষ্ট্যের কারণে-যেমন উচ্চ প্রতিসরাঙ্ক সূচক এবং কম শোষণ ক্ষতি-এটি অপটিক্যাল আবরণে ব্যাপকভাবে অ্যান্টি-প্রতিফলিত স্তর, অপটিক্যাল ফিল্টার, লেজারের উপাদান, এবং উচ্চ ফিল্ম পারফরমেন্স তৈরির জন্য ব্যবহৃত হয়।
বিশেষত্ব সিরামিক এবং আবরণ: এটির উচ্চ কঠোরতা এবং পরিধান প্রতিরোধের কাজে লাগিয়ে, এটি উন্নত সিরামিক সামগ্রীর পাশাপাশি উচ্চ তাপমাত্রা এবং ক্ষয় সহ্য করতে সক্ষম প্রতিরক্ষামূলক আবরণ তৈরিতে কাজ করে।
ফ্রন্টিয়ার রিসার্চ: কোয়ান্টাম কম্পিউটিং-এর মতো উদীয়মান ক্ষেত্রগুলিতে, হাফনিয়াম ডাই অক্সাইড কিউবিটগুলির জন্য একটি অস্তরক উপাদান হিসাবে প্রয়োগের সম্ভাব্যতা প্রদর্শন করে।
4N HfO2 স্পুটারিং টার্গেটের স্পেসিফিকেশন
বিশুদ্ধতা: 99.9%, 99.99%;
উত্পাদন পদ্ধতি: গরম প্রেস sintering
উপলব্ধ মাত্রা:
বৃত্তাকার: ব্যাস 14 ইঞ্চির কম বা সমান, বেধ 3 মিমি এর চেয়ে বেশি বা সমান;
আয়তক্ষেত্রাকার: দৈর্ঘ্য 14 ইঞ্চির কম বা সমান, প্রস্থ 10 ইঞ্চির কম বা সমান, পুরুত্ব 3 মিমি এর চেয়ে বেশি বা সমান।
বন্ডের ধরন: ইন্ডিয়াম
4N HfO2 স্পুটারিং টার্গেটের গুণমান নিয়ন্ত্রণ এবং পরীক্ষা
4N HfO2 স্পুটারিং টার্গেটের জন্য প্রায়শই জিজ্ঞাসিত প্রশ্ন
আপনি a কারখানা বা aপ্রস্তুতকারক?
উত্তর: হ্যাঁ, আমরা একটি 4N HfO2 স্পুটারিং টার্গেট কারখানা, তবে আমরা সাধারণত বিদেশে ব্যবসা পরিচালনা করতে আমাদের ট্রেডিং কোম্পানি ব্যবহার করি। রেমিট্যান্স গ্রহণ এবং চালানের ব্যবস্থা করা আরও সুবিধাজনক হবে।
বিতরণ পদ্ধতি কি?
উত্তর: সাধারণত, আমরা UPS, DHL, বা FedEx দ্বারা 4N HfO2 স্পুটারিং টার্গেট পাঠাই। এছাড়াও, আমরা সমুদ্রপথে একটি সমুদ্রবন্দরে বা আকাশপথে নিকটতম বিমানবন্দরে পাঠাতে পারি।
কেন আপনার 4N HfO2 স্পুটারিং টার্গেট এত খরচ-কার্যকর?
উত্তর: উৎপাদন প্রক্রিয়া শেষ করার জন্য আমরা মধ্যস্বত্বভোগীদের শেষ-শেষে-বহির্ভূত করি, এবং আমরা সরাসরি এর উৎস থেকে কাঁচামাল পাই।
আপনি কি স্পট মান পরিদর্শন নাপণ্য?
উত্তর: নিশ্চিতভাবে 100% সম্পূর্ণ পরিদর্শন। সমস্ত অযোগ্য 4N HfO2 স্পুটারিং টার্গেট বাতিল করা হয়।
আপনি কিভাবে আপনার সীসা সময় নিশ্চিত করবেন?
উত্তর: উপাদান প্রস্তুতি থেকে মেশিনিং এবং অবশেষে একটি সম্পূর্ণ পরিদর্শন পর্যন্ত। উত্পাদনের প্রতিটি পর্যায়ে কঠোরভাবে নিরীক্ষণ করা হয় এবং আপনাকে একটি সঠিক প্রসবের সময় দিতে নিয়ন্ত্রিত হয়।
4N HfO2 স্পুটারিং টার্গেটের MOQ কী?
A: 4N HfO2 স্পুটারিং টার্গেটের পরিমাণের উপর নির্ভর করে; সাধারণত, কোন MOQ সীমা নেই।
কিভাবে জন্য অর্থ প্রদানপণ্য?
উত্তর: একটি ব্যাংক স্থানান্তর (T/T) গ্রহণযোগ্য হবে।
প্রসবের সময় কি?
উত্তর: প্রায় 7-20 দিন, যা 4N HfO2 স্পুটারিং টার্গেটের পরিমাণ এবং উৎপাদনের উপর নির্ভর করে।
এটা কি ধরনের প্যাকেজ?
উত্তর: সাধারণত, আমরা 4N HfO2 স্পুটারিং টার্গেটের নিরাপত্তা নিশ্চিত করতে ভিতরে প্রতিরক্ষামূলক উপাদান সহ একটি শক্ত কাগজের কেস বা প্লাইউড কেস ব্যবহার করি।
লিড টাইম কি?
উত্তর: অর্ডার দেওয়া থেকে কার্গো প্রাপ্তিতে প্রায় 10-25 দিন সময় লাগবে।
গরম ট্যাগ: 4n hfo2 স্পুটারিং টার্গেট, চায়না 4n hfo2 স্পুটারিং টার্গেট সরবরাহকারী, কারখানা
