সিরামিক স্পুটারিং টার্গেট

• টিন অক্সাইড (SnO2) স্পুটারিং টার্গেট

  টিন অক্সাইড টার্গেট (SnO2) একটি গুরুত্বপূর্ণ অজৈব অধাতু উপাদান। এর অনন্য ভৌত এবং রাসায়নিক বৈশিষ্ট্যের কারণে, এটি অনেক উচ্চ প্রযুক্তির ক্ষেত্রে গুরুত্বপূর্ণ ভূমিকা পালন করে। এর প্রধান...

  আরো পড়ুন
• ট্যানটালাম অক্সাইড (Ta2O5) স্পুটারিং টার্গেট

  ট্যানটালাম অক্সাইড স্পুটারিং টার্গেট সেমিকন্ডাক্টর, রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD), শারীরিক বাষ্প জমা (PVD) প্রদর্শন এবং অপটিক্যাল অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে ব্যবহার করা যেতে পারে। আমরা প্রতিযোগিতামূলক দামে...

  আরো পড়ুন
• টাইটানিয়াম অক্সাইড (TiO2) স্পুটারিং টার্গেট

  টাইটানিয়াম ডাই অক্সাইড (TiO2) হল সবচেয়ে বেশি ব্যবহৃত সাদা রঙ্গক, উদাহরণস্বরূপ পেইন্টে। এটির উচ্চ উজ্জ্বলতা এবং একটি খুব উচ্চ প্রতিসরণ সূচক রয়েছে (রুটাইলের জন্য 2.609)।

  আরো পড়ুন
• জিঙ্ক অক্সাইড (ZnO) স্পুটারিং টার্গেট

  জিঙ্ক অক্সাইড (ZnO) স্পুটারিং টার্গেট ম্যাগনেট্রন স্পুটারিং শারীরিক বাষ্প জমার জন্য ব্যবহৃত হয়। বিভিন্ন ব্যাস, বেধ এবং বিশুদ্ধতা সমস্ত প্রধান স্পটার উত্স নির্মাতাদের জন্য উপলব্ধ।

  আরো পড়ুন
• ম্যাগনেসিয়াম ফ্লোরাইড (MgF2) স্পুটারিং টার্গেট

  ম্যাগনেসিয়াম ফ্লোরাইড একটি সাদা স্ফটিক লবণ এবং তরঙ্গদৈর্ঘ্যের বিস্তৃত পরিসরে স্বচ্ছ, অপটিক্সে বাণিজ্যিক ব্যবহার যা স্পেস টেলিস্কোপেও ব্যবহৃত হয়। এটি প্রাকৃতিকভাবে বিরল খনিজ সেলাইট হিসাবে ঘটে।...

  আরো পড়ুন
• লিথিয়াম কোবাল্ট অক্সাইড (LiCoO2) স্পুটারিং টার্গেট

  লিথিয়াম কোবাল্ট অক্সাইড একটি স্তরযুক্ত কাঠামো, যা লিথিয়াম-আয়ন স্থানান্তরের জন্য একটি দ্বি-মাত্রিক টানেল প্রদান করে। উচ্চতর ইলেক্ট্রোকেমিক্যাল পারফরম্যান্সের কারণে LiCoO2 স্পুটারিং টার্গেট...

  আরো পড়ুন
• মলিবডেনাম অক্সাইড (MoO3) স্পুটারিং টার্গেট

  মলিবডেনাম অক্সাইড স্পুটারিং টার্গেট সেমিকন্ডাক্টর, রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD), শারীরিক বাষ্প জমা (PVD) প্রদর্শন এবং অপটিক্যাল অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে ব্যবহার করা যেতে পারে। আমরা প্রতিযোগিতামূলক মূল্যে...

  আরো পড়ুন
• ম্যাগনেসিয়াম অক্সাইড (MgO) স্পুটারিং টার্গেট

  স্পুটারিং লক্ষ্যে ম্যাগনেসিয়াম অক্সাইড প্রধানত উচ্চ-গতির ফিল্ম গঠন, মাইক্রোইলেক্ট্রনিক্স এবং ফটোভোলটাইক শিল্পে প্রয়োগ, নির্দিষ্ট প্রস্তুতি প্রক্রিয়া এবং ব্যাপক আবরণ প্রয়োগে প্রতিফলিত হয়। এই...

  আরো পড়ুন
• মলিবডেনাম ডিসালফাইড (MoS2) স্পাটারিং টার্গেট

  MoSi2 একটি টেট্রাগোনাল কাঠামো। এটি মো-সি বাইনারি অ্যালয় সিস্টেমের সর্বোচ্চ সিলিকন সামগ্রী সহ একটি মধ্যবর্তী পর্যায়। এটি একটি স্থির রচনা, ধূসর এবং ধাতব দীপ্তি সহ একটি ডাল্টন আন্তঃধাতু যৌগ।

  আরো পড়ুন
• নিওবিয়াম অক্সাইড (Nb2O5) স্পুটারিং টার্গেট

  আমাদের নাইওবিয়াম অক্সাইড লক্ষ্যগুলি উন্নত ভ্যাকুয়াম হট প্রেসিং, হট আইসোস্ট্যাটিক প্রেসিং, কোল্ড প্রেসিং সিন্টারিং এবং তাপ স্প্রে করার প্রক্রিয়া ব্যবহার করে উত্পাদিত হয়। আমাদের পণ্য...

  আরো পড়ুন
• নিকেল অক্সাইড (NiO) স্পুটারিং টার্গেট

  NiO টার্গেট হল ফিজিক্যাল বাষ্প জমা (PVD) এবং রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD) এর মতো পাতলা ফিল্ম গ্রোথ টেকনোলজিতে ব্যবহৃত উপাদান। এই প্রযুক্তিগুলি সেমিকন্ডাক্টর ডিভাইস, অপটোইলেক্ট্রনিক ডিভাইস এবং বিভিন্ন...

  আরো পড়ুন
• সিলিকন কার্বাইড (SiC) স্পুটারিং টার্গেট

  এই বিভাগে সিলিকন কার্বাইড লক্ষ্যগুলির মৌলিক বৈশিষ্ট্যগুলি বিস্তারিতভাবে আলোচনা করা হয়েছে, এর রাসায়নিক এবং ভৌত বৈশিষ্ট্য, প্রস্তুতির পদ্ধতিগুলি থেকে, গুণমান মূল্যায়ন সূচকগুলির একটি বিস্তৃত...

  আরো পড়ুন