উচ্চ বিশুদ্ধতা 99.95% টাংস্টেন স্পুটারিং লক্ষ্য
উচ্চ বিশুদ্ধতা 99.95% টাংস্টেন স্পুটারিং লক্ষ্য

উচ্চ বিশুদ্ধতা 99.95% টাংস্টেন স্পুটারিং লক্ষ্য

স্পাটারিং হল একটি নতুন ধরনের শারীরিক বাষ্প জমা (PVD) পদ্ধতি। Sputtering ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়: ফ্ল্যাট প্যানেল প্রদর্শন, কাচ শিল্প (স্থাপত্য গ্লাস, অটোমোটিভ গ্লাস, অপটিক্যাল ফিল্ম গ্লাস অন্তর্ভুক্ত), সৌর কোষ, পৃষ্ঠ প্রকৌশল, রেকর্ডিং মিডিয়া, মাইক্রোইলেক্ট্রনিক্স, স্বয়ংচালিত আলো এবং আলংকারিক আবরণ ইত্যাদি।
অনুসন্ধান পাঠান
পণ্য বিবরণ

 

স্পাটারিং হল একটি নতুন ধরনের শারীরিক বাষ্প জমা (PVD) পদ্ধতি। Sputtering ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়: ফ্ল্যাট প্যানেল প্রদর্শন, কাচ শিল্প (স্থাপত্য গ্লাস, অটোমোটিভ গ্লাস, অপটিক্যাল ফিল্ম গ্লাস অন্তর্ভুক্ত), সৌর কোষ, পৃষ্ঠ প্রকৌশল, রেকর্ডিং মিডিয়া, মাইক্রোইলেক্ট্রনিক্স, স্বয়ংচালিত আলো এবং আলংকারিক আবরণ ইত্যাদি।

 

টাইপ এবং সাইজ

 

পণ্যের নাম

টাংস্টেন(W-1) স্পুটারিং টার্গেট

উপলব্ধ বিশুদ্ধতা (%)

99.95%

আকৃতি:

প্লেট, বৃত্তাকার, ঘূর্ণমান

আকার

OEM আকার

গলনাঙ্ক(ডিগ্রি)

3407 (ডিগ্রী)

পারমাণবিক আয়তন

9.53 cm³/mol

ঘনত্ব (g/cm³)

19.35 গ্রাম/সেমি³

প্রতিরোধের তাপমাত্রা সহগ

0.00482 I/ ডিগ্রি

পরমানন্দ তাপ

847.8 kJ/mol (25 ডিগ্রি)

গলে যাওয়ার সুপ্ত তাপ

40.13±6.67kJ/mol

পৃষ্ঠ অবস্থা

পোলিশ বা ক্ষার ধোয়া

আবেদন:

মহাকাশ, বিরল পৃথিবীর গন্ধ, বৈদ্যুতিক আলোর উত্স, রাসায়নিক সরঞ্জাম, চিকিৎসা সরঞ্জাম, ধাতুবিদ্যার যন্ত্রপাতি, গলানোর সরঞ্জাম, পেট্রোলিয়াম ইত্যাদি

 

বৈশিষ্ট্য

 

(1) ছিদ্র, স্ক্র্যাচ এবং অন্যান্য অপূর্ণতা ছাড়াই মসৃণ পৃষ্ঠ

(2) গ্রাইন্ডিং বা ল্যাথিং এজ, কাটার চিহ্ন নেই

(3) বস্তুগত বিশুদ্ধতার অপরাজেয় লেরেল

(4) উচ্চ নমনীয়তা

(5) সমজাতীয় মাইক্রো ট্রুকালচার

(6) নাম, ব্র্যান্ড, বিশুদ্ধতা আকার এবং তাই আপনার বিশেষ আইটেম জন্য লেজার চিহ্নিতকরণ

(7) পাউডার উপকরণ আইটেম এবং সংখ্যা, মিশ্রণ শ্রমিক, আউটগাস এবং HIP সময়, মেশিনিং ব্যক্তি এবং প্যাকিং বিবরণ থেকে sputtering লক্ষ্য প্রতিটি পিসি নিজেদের তৈরি করা হয়.

 

অ্যাপ্লিকেশন

 

1. পাতলা-ফিল্ম উপাদান তৈরির একটি গুরুত্বপূর্ণ উপায় হল স্পাটারিং- শারীরিক বাষ্প জমার একটি নতুন উপায় (PVD)। লক্ষ্য দ্বারা তৈরি পাতলা ফিল্ম উচ্চ ঘনত্ব এবং ভাল আঠালো দ্বারা চিহ্নিত করা হয়. যেহেতু ম্যাগনেট্রন স্পুটারিং কৌশলগুলি ব্যাপকভাবে প্রয়োগ করা হচ্ছে, উচ্চ খাঁটি ধাতু এবং খাদ লক্ষ্যগুলি অত্যন্ত প্রয়োজন৷ উচ্চ গলনাঙ্ক, স্থিতিস্থাপকতা, তাপ সম্প্রসারণের কম সহগ, প্রতিরোধ ক্ষমতা এবং সূক্ষ্ম তাপ স্থিতিশীলতা, বিশুদ্ধ টংস্টেন এবং টাংস্টেন খাদ লক্ষ্যগুলি সেমিকন্ডাক্টর ইন্টিগ্রেটেড সার্কিট, দ্বি-মাত্রিক প্রদর্শন, সৌর ফটোভোলটাইক, এক্স-রে টিউব এবং পৃষ্ঠ প্রকৌশলে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়।

2. এটি পুরানো স্পুটারিং ডিভাইসের পাশাপাশি সর্বশেষ প্রক্রিয়া সরঞ্জামগুলির সাথে কাজ করতে পারে, যেমন সৌর শক্তি বা জ্বালানী কোষ এবং ফ্লিপ-চিপ অ্যাপ্লিকেশনের জন্য বড় এলাকা আবরণ।

 

গরম ট্যাগ: উচ্চ বিশুদ্ধতা 99.95% টাংস্টেন স্পটারিং লক্ষ্য, চীন উচ্চ বিশুদ্ধতা 99.95% টাংস্টেন স্পটারিং লক্ষ্য সরবরাহকারী, কারখানা