নিকেল-নিওবিয়াম খাদ লক্ষ্যগুলি হল একটি নির্দিষ্ট অনুপাতে প্রধান উপাদান হিসাবে নিকেল (Ni) এবং niobium (Nb) গলিয়ে তৈরি করা লক্ষ্যবস্তু। এগুলি মূলত শারীরিক বাষ্প জমা (PVD) প্রক্রিয়াগুলিতে, বিশেষত ম্যাগনেট্রন স্পুটারিং, বিভিন্ন স্তরগুলিতে কার্যকরী পাতলা ফিল্ম প্রস্তুত করতে ব্যবহৃত হয়।
নিকেল-নিওবিয়াম অ্যালয় লক্ষ্যগুলির জন্য প্রস্তুতির পদ্ধতি
1. কাঁচামাল প্রস্তুত: কাঁচামাল হিসাবে উচ্চ-বিশুদ্ধতা নিকেল এবং নাইওবিয়াম পাউডার নির্বাচন করুন, তাদের বিশুদ্ধতা লক্ষ্য প্রস্তুতির প্রয়োজনীয়তা পূরণ করে তা নিশ্চিত করুন৷ উদাহরণস্বরূপ, নিকেল এবং নিওবিয়াম পাউডারের বিশুদ্ধতা 99.9% এর বেশি হতে পারে।
2. পাউডার মিক্সিং: পরিকল্পিত অ্যালয় কম্পোজিশন অনুপাত অনুযায়ী নিকেল এবং নিওবিয়াম পাউডার সঠিকভাবে ওজন করুন এবং একটি মিক্সিং ডিভাইসে পুঙ্খানুপুঙ্খভাবে মিশ্রিত করুন। অভিন্ন মিশ্রণ নিশ্চিত করতে, বল মিলিং ব্যবহার করা যেতে পারে, উপযুক্ত মিলিং সময় এবং বল-থেকে-বস্তুর অনুপাত নিয়ন্ত্রণ করে।
3. প্রেসিং: অভিন্নভাবে মিশ্রিত পাউডারগুলি একটি ছাঁচে স্থাপন করা হয় এবং কোল্ড আইসোস্ট্যাটিক প্রেসিং (সিআইপি) বা হট আইসোস্ট্যাটিক প্রেসিং (এইচআইপি) ব্যবহার করে একটি নির্দিষ্ট ঘনত্ব এবং শক্তি সহ লক্ষ্য ফাঁকা তৈরি করতে চাপ দেওয়া হয়। কোল্ড আইসোস্ট্যাটিক প্রেসিং (সিআইপি) তুলনামূলকভাবে কম চাপে প্রাথমিক পাউডার কম্প্যাকশনের জন্য অনুমতি দেয়, যখন এইচআইপি উচ্চ তাপমাত্রা এবং উচ্চ চাপে লক্ষ্যবস্তুর ঘনত্ব আরও বাড়ায়।
4. সিন্টারিং: চাপা লক্ষ্যবস্তুকে একটি ভ্যাকুয়াম ফার্নেসে sintered করা হয় পাউডার কণার মধ্যে ছিদ্র দূর করতে এবং লক্ষ্যের ঘনত্ব এবং কর্মক্ষমতা উন্নত করতে। সিন্টারিং তাপমাত্রা এবং সময় মূল পরামিতি। সিন্টারিং তাপমাত্রা সাধারণত 1000 ডিগ্রী থেকে 1500 ডিগ্রী পর্যন্ত থাকে এবং সিন্টারিং সময় কয়েক ঘন্টা থেকে কয়েক ডজন ঘন্টার মধ্যে থাকে। অপ্টিমাইজেশন টার্গেটের গঠন এবং আকারের উপর নির্ভর করে।
5. মেশিনিং: sintering পরে, টার্গেট মেশিনিং প্রয়োজন, যেমন বাঁক এবং নাকাল, পছন্দসই মাত্রা এবং পৃষ্ঠ ফিনিস অর্জন করতে.
নিকেলের প্রয়োগ{{0}নিবিয়াম অ্যালয় টার্গেট
সেমিকন্ডাক্টর: এগুলি বাধা স্তর, ইলেক্ট্রোড এবং আন্তঃসংযোগ তৈরি করার জন্য স্পুটারিংয়ের জন্য ব্যবহার করা যেতে পারে। নিকেল-নিবিয়াম খাদ পাতলা ফিল্মগুলি কার্যকরভাবে ধাতব পরমাণুর প্রসারণ রোধ করে, সেমিকন্ডাক্টর ডিভাইসগুলির কার্যকারিতা এবং নির্ভরযোগ্যতা উন্নত করে এবং ইন্টিগ্রেটেড সার্কিট তৈরির জন্য অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ।
প্রদর্শন প্রযুক্তি: OLEDs এবং লিকুইড ক্রিস্টাল ডিসপ্লের মতো ফ্ল্যাট-প্যানেল ডিসপ্লেতে, নিকেল-নিবিয়াম অ্যালয় লক্ষ্যগুলি ইলেক্ট্রোড বা প্রতিফলিত স্তর তৈরি করতে ব্যবহার করা যেতে পারে, যা স্ক্রিনের উজ্জ্বলতা, প্রতিক্রিয়া গতি এবং রঙের স্থিতিশীলতা উন্নত করতে সাহায্য করে।
অপটিক্যাল আবরণ: এগুলি বিভিন্ন অপটিক্যাল আবরণ তৈরি করতে ব্যবহার করা যেতে পারে, যেমন ইনফ্রারেড রিফ্লেক্টিভ ফিল্ম এবং লেজারের ক্ষতি{0}}প্রতিরোধী ফিল্ম, নির্ভুল অপটিক্যাল ডিভাইস, লেজার সিস্টেম এবং অপটিক্যাল ইন্সট্রুমেন্টে অ্যাপ্লিকেশনের জন্য বিভিন্ন অপটিক্যাল পারফরম্যান্সের প্রয়োজনীয়তা পূরণ করতে।
পরিধান-প্রতিরোধী এবং জারা-প্রতিরোধী আবরণ: তাদের চমৎকার পরিধান এবং জারা প্রতিরোধের কারণে, নিকেল-নিবিয়াম খাদ লক্ষ্যগুলি পরিধান- এবং ক্ষয়-প্রতিরোধী পাতলা ফিল্ম তৈরি করতে ব্যবহার করা যেতে পারে যান্ত্রিক অংশ এবং কম্পন সারফেস এবং কম্পন লাইফের উপর। মহাকাশ, স্বয়ংচালিত উত্পাদন এবং মেশিনিংয়ের মতো শিল্পগুলিতে তাদের ব্যাপক প্রয়োগের সম্ভাবনা রয়েছে।
