কোবাল্ট স্পুটারিং টার্গেট

কোবাল্ট একটি ভঙ্গুর, শক্ত ধাতু, যা দেখতে লোহা এবং নিকেলের মতো। এটি লোহার তুলনায় প্রায় দুই তৃতীয়াংশ ধাতব ব্যাপ্তিযোগ্যতা রয়েছে। কোবাল্ট বিস্তৃত তাপমাত্রা পরিসরে দুটি অ্যালোট্রপের মিশ্রণ হিসাবে বিদ্যমান থাকে। রূপান্তরটি ধীরগতির এবং কোবাল্টের ভৌত বৈশিষ্ট্যের উপর রিপোর্ট করা তথ্যের ব্যাপক পরিবর্তনের জন্য আংশিকভাবে দায়ী।

গলনাঙ্ক: 1495 ডিগ্রি স্ফুটনাঙ্ক: 2927 ডিগ্রি

একটি স্পটারিং টার্গেট হল একটি উচ্চ বিশুদ্ধতা উপাদানের একটি ডিস্ক যা আয়ন রশ্মি বোমা হামলার জন্য পারমাণবিক স্পটারিং উত্স হিসাবে ব্যবহৃত হয়। আপনার প্রয়োজনীয় sputtertarget আকার এবং/অথবা বিশুদ্ধতা তালিকাভুক্ত না থাকলে অনুগ্রহ করে আমাদের সাথে যোগাযোগ করুন।

স্পাটারিং হল পাতলা ফিল্ম ডিপোজিশনের একটি বহুল ব্যবহৃত পদ্ধতি, যেখানে একটি ভৌত ​​বাষ্প জমা (PVD) প্রক্রিয়া নিযুক্ত করা হয় যেখানে শক্তিশালী কণা দ্বারা লক্ষ্যবস্তুতে বোমাবর্ষণের কারণে একটি কঠিন লক্ষ্যবস্তু থেকে পরমাণু বের হয়ে যায়।

একটি কোবাল্ট স্পুটারিং লক্ষ্যের ক্ষেত্রে, উচ্চ-বিশুদ্ধতা কোবাল্ট লক্ষ্যবস্তু হিসাবে ব্যবহৃত হয়। প্রক্রিয়াটি শুরু হয় স্পুটারিং চেম্বারে একটি প্লাজমা তৈরি করে, সাধারণত আর্গন গ্যাস দিয়ে। রক্তরস থেকে আয়নগুলি লক্ষ্য পৃষ্ঠ থেকে কোবাল্ট পরমাণু অপসারণ করার জন্য পর্যাপ্ত শক্তি সহ কোবাল্ট লক্ষ্যের দিকে ত্বরান্বিত হয়। এই কোবাল্ট পরমাণুগুলি নির্গত হওয়ার সাথে সাথে তারা ভ্যাকুয়াম চেম্বার জুড়ে ভ্রমণ করে এবং একটি সাবস্ট্রেটে জমা হয়, পছন্দসই বৈশিষ্ট্য সহ একটি পাতলা ফিল্ম তৈরি করে। লক্ষ্যবস্তুতে প্রয়োগ করা শক্তি, ভ্যাকুয়াম স্তর এবং গ্যাসের সংমিশ্রণ সহ স্পুটারিং অবস্থাগুলি প্রয়োজনীয় ফিল্ম বৈশিষ্ট্যগুলি যেমন পুরুত্ব, অভিন্নতা এবং স্ফটিক কাঠামো অর্জনের জন্য নিয়ন্ত্রিত হয়।

কোবাল্টের চৌম্বকীয় বৈশিষ্ট্য, পরিধান প্রতিরোধ ক্ষমতা এবং রাসায়নিক স্থিতিশীলতার কারণে কোবল্ট (Co) থুতুর মাধ্যমে উত্পাদিত পাতলা-ফিল্ম আবরণ বিভিন্ন সেক্টরে অবিচ্ছেদ্য। এই ফিল্মগুলি প্রধানত চৌম্বকীয় রেকর্ডিং মিডিয়ার জন্য ডেটা স্টোরেজ শিল্পে ব্যবহৃত হয়। তারা ইলেকট্রনিক্স শিল্পে চৌম্বকীয় সেন্সর, প্রবর্তক উপাদান এবং মাইক্রো-ইলেক্ট্রোমেকানিকাল সিস্টেম তৈরির জন্য অ্যাপ্লিকেশন খুঁজে পায়।

কোবাল্ট টার্গেট স্পুটারিং লক্ষ্যগুলি উচ্চ বিশুদ্ধতা 99.99% কোবাল্ট থেকে তৈরি করা হয়

স্ট্যান্ডার্ড বেধ 0.1 মিমি (100µm) অনুরোধের ভিত্তিতে উপলব্ধ অন্যান্য বেধ

উপলব্ধ ব্যাস Ø 20.0 মিমি, 20.4 মিমি, 32 মিমি, 39 মিমি, 42 মিমি, 50 মিমি, 50.8 মিমি, 54 মিমি, 57 মিমি, 60 মিমি, 63.5 মিমি, 75 মিমি, 76 মিমি।

গরম ট্যাগ: কোবল্ট স্পুটারিং টার্গেট, চায়না কোবল্ট স্পুটারিং টার্গেট সরবরাহকারী, কারখানা